技術：
Vistec电子束提供电子束光刻系统，以所谓的可变形状光束原理为基础。在可变形电子束系统中，电子束通过整形孔径后形成可变「电子束成像」。形状尺寸可按1纳米的单位变化。最大形状尺寸取决于电子-光学柱的配置。透过电子偏移和遮蔽开关系统允许将精确的形状定位与曝光在基材上。如此一来就能分析预计曝光的图案，进而保证最佳图案的真实度。
Vistec SB3050-2光刻系统
VistecSB3050-2是我们最先进的电子束光刻系统，采用可变形光刻技术，具备在尺寸长达300mm的掩膜制作或芯片基材上完全写入的能力。这种高度的灵活性促使能广泛地应用在研发、光学应用和小批量产上。
Vistec SB254光刻系统
Vistec SB254是一款全自动化、高性能、成本效益高的电子束光刻系统，专门设计用在工业和先进的研究。它以可变形光束(VSB)原理为基础，200mm的平台工具广泛用在现阶段与新兴半导体和纳米技术的应用上，包括硅片的直接写入、化合物半导体、掩膜制造、整合光学和光学组件。Vistec SB254是一款可靠、经过实地验证的系统，具有高产能率，适合全时量产生产环境。本产品在全世界许多设施上都有高效率的国际服务团队在背后支持。
